化学镀锡有别于电镀和浸镀，它是在无外加电流的情况下，利用化学还原剂将镀液中的锡离子还原成金属锡，并沉积在具有催化活性的工件表面。然而，化学镀锡的难度相对较大，因为铜或镍自催化沉积用的常见还原剂均不能用来还原锡，原因在于锡表面上析氢过电位高，而这些常见还原剂的反应均为析氢反应。所以，要实现化学镀锡，必须选用另一类不析氢的强还原剂，如 Ti3 +、V2 +、Cr2 + 等。目前，*有关于用 T3 + / Ti4 + 系的相关报道。不过，一旦成功实现化学镀锡，所得到的镀层具有较好的均匀性和一致性，在一些对镀层质量要求极高的特殊领域有潜在应用价值。
搅拌能够促进镀液中离子的扩散，使镀液成分均匀，有助于提高镀锡层的均匀性。可采用机械搅拌、空气搅拌或超声波搅拌等方式。机械搅拌通过搅拌桨的转动使镀液流动，但要注意搅拌速度不宜过快，以免产生大量泡沫和紊流，影响镀层质量；空气搅拌是向镀液中通入压缩空气，形成微小气泡，推动镀液流动，这种方式操作简单，但要确保压缩空气的洁净，防止引入杂质；超声波搅拌利用高频振动产生的空化效应，可使镀液中的离子快速扩散，尤其适用于复杂形状工件的镀锡，能有效改善镀层的均匀性。
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